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氧化铝介电层被后续工艺中的显影液腐蚀？

镀了一层50nm的氧化铝薄膜作为场效应管的栅极介质，后续工艺中通过光刻制备电极。选用EPG535正胶，显影液为0.5%NaOH或2.38%TMAH，都发现这层氧化铝被腐蚀了（紫外光刻显影液基本都是强碱性的），有虫子遇到过这种情况吗？如何避免呢，谢谢！

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共7个回答

是耶非耶，化工研发 2020-10-28回答

如果一定要这么做换负胶试试，显影液兼容就可以

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佩琪苏西，改性塑料销售高... 2020-10-28回答

你确定是氧化铝？
是的呀，一般用氧化铝或者二氧化硅

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瞳孔深深.芦苇，设备工程师 2020-10-28回答

是的呀，一般用氧化铝或者二氧化硅...
你再确认下吧，氧化铝和二氧化硅都不会和显影液反应

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井妹妹，化工研发 2020-10-28回答

你再确认下吧，氧化铝和二氧化硅都不会和显影液反应
...
一般正胶显影液都是强碱性的，会与氧化铝和二氧化硅反应的；Al₂O₃ + 2NaOH = 2NaAlO₂ + H₂O

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该死,，销售 2020-10-28回答

你确定是氧化铝？

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书生，工艺专业主任 2020-10-28回答

你再确认下吧，氧化铝和二氧化硅都不会和显影液反应
...
你说反了，都会的，只是强弱问题

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西瓜弟桃子姐，设备工程师 2020-10-28回答

如果一定要这么做换负胶试试，显影液兼容就可以
请问有推荐的胶吗？我这有AZ5214反转胶，可用作负胶，但显影液也是碱性的。氧化铝主要是被碱性显影液腐蚀

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