一.关于注册
杂质研究问题
a。光学异构体
在研发中当我们合成一个手性药物有下列几种方法1。通过消旋体拆分 2.手性源 3.不对称反应
问:对于1中情况,在对应异构体研究中是否可以以消旋体作为对照,而不需要做出纯的另一个光学异构体。
对于2和3中情况有可能研发过程中都未获得另一光学异构体,那么如果在手性柱中控制所有杂质都控制在ICH指导原则的最高限度,也就是说不管手性的异构体是哪个峰,就算无毒也控制在很低含量,是否不用对照也可以。
b。差向异构体
问:当药物具有多个手性中心时,是否需要合成其差向异构体作为对照,我是这样想的全做为未知杂货控制就行了。
c。关于已知杂质问题
问:当药品中有已知杂质时,我们的工艺能够将所有杂质都控制ICH指导原则的最高限内,是否不需要已知杂质对照,也就是说全按未知杂质控制了。
二。关于抢仿问题
根据注册法规,只允许药品专利过期两年前进行申报。
问: 如果化合物专利2010年过期,制剂专利2014年过期,制剂没有绕开专利,申报是什么时间。
问:如果是3+3,需要做临床,申报完恐以过专利期了,好像与现实的流程不符。
是不是做完原药及制剂研发,就可以申报临床,临床完毕后,专利过期前两年再报产。3+6的生物等效性也是一样。请高手详细解释其从研发到或得生产批文的流程,时间。
问:如果真是只能申报前两年进行申报,岂不是不管提前多少年研发都无法保证抢到首仿。
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