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2-巯基哌啶的应用有哪些? 1

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2-巯基哌啶作为一种重要的化学物质,在许多领域都有广泛的应用,本文将介绍其不同用途,通过深入探讨该化合物的多种用途,以期为读者呈现其广泛的应用前景。


简述:2-巯基哌啶,中文别名:2-巯基嘧啶,英文名称:pyrimidine-2-thiolCAS1450-85-7 ,分子式:C4H4N2S,外观与性状:白色至淡黄色结晶粉末,常作为医药中间体。


应用:

1. 制备一种无卤膨胀阻燃剂

包括93wt%的主料和7wt%的辅料;主料包括3.5wt%~5wt%的聚磷酸铵、1.5wt%~2.5wt%的聚乙烯、6.5wt%~10wt%的三聚氰胺、7wt%~10wt%的三季戊四醇、9wt%~13wt%的2,5-二甲基苄胺、1.75wt%~3wt%的2-氮杂环壬酮、15wt%~17wt%的丙二醇单甲醚乙酸酯、5wt%~10wt%的亚麻酸甲酯、0.5wt%~0.75wt%的3-甲基喹啉,余量为氢氧化铝和氢氧化镁的混合物,氢氧化铝和氢氧化镁的重量比为2:1;辅料包括12wt%~15wt%的2-巯基哌啶、8wt%~10wt%的3,4-二羟基甲苯、3wt%~4wt%的草酸铵、10wt%~15wt%的4-氨基嘧啶、17wt%~20wt%的2-氰基-4-硝基苯胺、5wt%~7wt%的硬脂酸锌,余量为乙酰金刚烷胺。


2.作为冷轧钢在HNO3溶液中的有效缓蚀剂

盐酸、H2SO4 HNO3在化学工业中通常用于酸洗、蚀刻、除垢和酸化。为了延缓工业过程中金属材料的腐蚀,一般在酸溶液中加入缓蚀剂。N-杂环化合物被称为钢的有效抑酸剂,其抑制性能主要由N-杂环和取代基决定。2-巯基嘧啶(MP)是一种有效的抑制剂,在低浓度0.50mM时,其抑制率高达99.1%MP的加入使阳极曲线和阴极曲线都趋向于低电流密度,并显著增强了阻抗。


并且MP很容易合成,是一种环境友好型缓蚀剂,成本低,水溶性好。综上所述,在众多嘧啶类衍生物中,MP作为铁或钢在HClH2SO4中的缓蚀剂是首选。实际上,除了HClH2SO4溶液外,MP还被用作钢在H3PO4和铁的CO2腐蚀中的有效缓蚀剂。此外,MP还能有效延缓铜在H2SO4、铝在氯化物溶液、锌在HCIH3PO4溶液中的腐蚀。MP被认为是一种普遍有效的抑制剂。然而,关于其在HNO3溶液中抑制腐蚀的作用,报道较少。


3. 合成抑菌配合物[Cd(2-mpym)4(H2O)2](NO3)2

含硫、氮螯合配体是金属配合物结构化学中的重要化合物,具有很强的供电子性。氮和硫的存在降低了配合物的溶解度,使得配合物可以从溶液中分离出来。硫、氮等双齿芳香配体参与多种反应。许多重要的药物都与吡啶、嘧啶及其含硫衍生物的类似物有关。嘧啶的硫代衍生物巯基嘧啶具有显著的抗病毒、抗菌、抗肿瘤和抗甲状腺活性。这些杂环化合物参与了硫醇/硫酮(pym-SH/Pym-NH)类互变异构平衡,具有重要的生物学意义。


Marzieh Biabani等人在甲醇溶液中,以Cd(NO3)2.4H202-巯基嘧啶反应得到了新的配合物[Cd(2-mpym)4(H2O)2](NO3)2(1)x射线结构测定揭示了镉金属离子的两种类型:与一个水分子的两个氧原子和2-m配体的四个硫原子六方配位的镉;8配位的镉与4个硫原子和4个氮原子的嘧啶环是2位配体。体外研究了该化合物对标准革兰氏阳性和革兰氏阴性菌株的抑菌性能。抑菌试验结果表明,配合物比游离配体具有更强的抑菌作用。


4. 在银电极上的伏安行为

在适当的电位下,2-巯基嘧啶可以吸附在电极上并与电极相互作用,在表面形成不溶性银盐。随着电位变为负值,两个阴极峰分别出现在?0.66 V和?1.28 V处。?0.66 V处的峰值归因于2-巯基嘧啶的微溶性银化合物的还原,另一个归因于2-巯基嘧啶还原为嘧啶,这已通过毛细管电泳得到证实。


参考文献:

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[3] Biabani M, Saravani H, Eigner V, et al. A novel coordination polymer of Cd (II) based on 2-mercaptopyrimidine: sonochemical synthesis, characterization, and antibacterial properties[J]. Journal of Molecular Structure, 2018, 1166: 470-478.

[4] Zeng B, Ma F, Purdy W C. Voltammetric Behavior of 2‐Mercaptopyrimidine at a Silver Electrode[J]. Electroanalysis: An International Journal Devoted to Fundamental and Practical Aspects of Electroanalysis, 1998, 10(10): 677-684.

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