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分子印迹聚合物的极性修饰剂优化? 1

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分子印迹聚合物(MIPs)在液相色谱中用作高度对映选择性的固定相。为了优化MIP的结合性能,常常使用不同类型的极性修饰剂。Fmoc-L-色氨酸是一种常用的修饰剂,可以获得高活性和水溶性的聚合物[1]。

合成方法

图1 Fmoc-L-色氨酸的合成路线[2]。

图1展示了Fmoc-L-色氨酸的合成路线[2]。

合成方法一:将2毫克氨基酸衍生物称入螺旋盖玻璃瓶中(1.5 cm3),并加入1 cm3 0.1N(约0.37%w/v)盐酸的HFIP溶液(每990μL HFIP 10μL约37%w/v HCl水溶液)。将溶液静置一段时间,然后通过RP-HPLC进行分析。在HFIP中用0.1N HCl从Fmoc-Asn(Trt)-OH中去除N-Trt基团非常快。反应10分钟后,在HPLC痕迹中没有发现起始材料的痕迹(图S1)。通过硅胶柱纯化得到标题化合物Fmoc-L-色氨酸。合成路线如图1所示。

合成方法二:将1.5ml(24mmol)乙酸和320mg(14mmol)镁盐加入到(2mmol)相应苯酰基酯在MeOH/DMF(8:2)20ml中的溶液中。在室温下搅拌反应混合物。过滤反应混合物。真空浓缩滤液。用5%NaHCO3(20ml)和乙醚EtOAc(1:1,20ml)稀释残余物。用5%NaHCO3(2x20ml)萃取有机层。用饱和KHSO4将含水提取物酸化至pH 2-3,并用EtOAc(2x20 ml)提取。用盐水(2 x 20 ml)洗涤有机层,用硫酸钠干燥并过滤。蒸发滤液并用石油醚固化残余物以获得产物Fmoc-L-色氨酸。合成路线如图1所示。

图2 Fmoc-L-色氨酸的合成路线[3]。

图2展示了Fmoc-L-色氨酸的合成路线[3]。

在室温下,将试剂3(2.44g 6.0tnmol)加入到氨基酸或衍生物4(6.6mmol)和碳酸氢钠(1.09g,13.0mmol)在水(30ml)和丙酮(15ml)的混合物中的搅拌悬浮液中。通过T.L.C.在紫外光下检测到试剂消失来监测反应。反应完成后(时间取决于氨基酸或衍生物的溶解度:4至24小时),通过加入浓盐酸将混合物酸化至pH 3,然后用乙酸乙酯萃取三次。除去溶剂后,以通常的方式获得Fmoc-L-色氨酸。收率为89%。熔点:163-165°C。合成路线如图2所示。

应用

Fmoc-L-色氨酸常被用作有机改性剂。先前的研究表明,修饰剂的氢键供体参数(HBD)对手性分离中MIP的结合性能有很大影响。经过Fmoc-L-色氨酸修饰的印迹聚合物用四种不同的极性改性剂洗脱。具有更高HBD的有机改性剂降低了每个位点上的对映体选择性。高能位点比低能位点更具对映选择性。而且使用具有高HBD的有机改性剂会导致模板分子所接近的高能位点密度的更大降低[1]。

参考文献

[1] H. Kim, G. Guiochon, Thermodynamic studies on the solvent effects in chromatography on molecularly imprinted polymers. 1. Nature of the organic modifier, ANALYTICAL CHEMISTRY 77(6) (2005) 1708-1717.

[2] Wu, Cheng-Yi; et al. Parallel synthesis of 1,2,3,4-tetrahydro-β-carbolines using microwave irradiation. Synlett (2002), (10), 1709-1711.

[3] Schon, Istvan; et al. 9-Fluorenylmethyl pentafluorophenyl carbonate as a useful reagent for the preparation of N-[(9-fluorenylmethoxy)carbonyl] amino acids and their pentafluorophenyl esters. Synthesis (1986), (4), 303-5

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