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有关自组装实验时工作电极(不锈钢)的打磨问题?

我的实验主要是测交流阻抗和塔菲尔曲线,三电极体系,参比电极是饱和甘汞电极,辅助电极是铂电极,工作电极是316不锈钢。实验前工作电极的打磨总是处理不好,我用400#,600#,1200#,1400#,2500#的砂纸逐级打磨后还是能看到划痕,去测SEC的图根本就无法用,特别明显的凹凸不平的表面,不知道大家平时都是怎么处理电极的,如何能打磨出镜面光亮的效果呢?
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要用1200#的细沙,通过喷砂来处理表面。我在新加坡做过,很好用!
还想问一下,如果打磨的效果不好,是否会影响实验的结果,比如自组装膜的组装效果,以及交流阻抗和塔菲尔曲线的测试。
砂纸打磨留下的是划痕,划痕的深浅和宽窄取决于沙粒尺寸,即使最细的砂纸打磨出来也要留下1um左右的划痕,这是正常现象。对表面平整度要求的高的样品,有半导体工业用的抛光机,也是用抛光膏,也会留下划痕,但比手 ... 我做的是单分子的自组装,电极是用环氧树脂包裹的,露出的部分直径有3cm,肉眼看上去已经很平整了,不知道为什么SEM照出来是那种效果,而且组装分子的和未组装分子的都没有什么区别,但是电化学测试的时候有的确是有区别的,电阻要差好多。我每次用砂纸打磨的时候都是20分钟左右吧,不知道这个打磨的时间长一点会不会效果好一些,下次打算多磨一会儿。实验室设备有限,就只有砂纸……,
还是选择抛光吧!表面平整度对测量的离散型影响还是很大的!
如果要求比较高还是选择抛光吧,抛光粉选择细一点的,效果和打磨还是有比较大的差距的
砂纸打磨留下的是划痕,划痕的深浅和宽窄取决于沙粒尺寸,即使最细的砂纸打磨出来也要留下1um左右的划痕,这是正常现象。对表面平整度要求的高的样品,有半导体工业用的抛光机,也是用抛光膏,也会留下划痕,但比手工要均线得多。你如果不是做单分子自组装修饰表面的话,用最细的砂纸抛光也可以了。你观察到的凹凸表面,估计不是砂纸产生的结果,而是原样品表面太粗糙的原因,如果是,那就要选用表面平整的,或者先用粗砂纸磨平凹凸,再改用细砂纸,知道表面粗糙度可以接受为止。实际上,如果仅研究电化学行为的话,只要表面没有太显著的凹凸和峰谷,划痕不太深也就可以了,尽管表面尖峰和凹坑会影响电流的分布,但只要不太深(>5um),而且样品暴露表面较大(1cm2),测试的结果为平均效果,表面压微米的粗糙度就不会产生明显的影响。其实,电极表面抛光打磨最重要的作用是除去表面污染物(氧化膜等),它对电极过程影响最大。
要用1200#的细沙,通过喷砂来处理表面。我在新加坡做过,很好用! 实验室没有喷砂机,就只有砂纸……我用的时候反而觉得1400#的效果好一些,但是还是有好多划痕。
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