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求助:如何测硅片的电导率?

如题,本人想测1cm*1cm大小硅片的薄层电阻和电导率,想用四探针法测,但是我查了资料,发现有如下公式:1、2、3、请问对于我想测的硅片,应该用什么公式?还是说有其他公式?然后就是,用四探针法测硅片电导率一定要做电极吗?为什么要做电极呢?PS.我对电测量不懂。刚接触,实验室人也不懂这块。。。。无语中。。。求高人。。求指点。。。不胜感谢,如能提供相关资料,更好
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共4个回答
我也不懂,求同问!
所以的电测量都需用电极连接,除了电场感应法外。对Si表面电阻/电导测量,为减小电极与表面的接触电阻对测试的影响,一般都采用四电极法,即将四个等距离排列的惰性金属探针(或直接将电极沉积/粘贴)压接在样品表面,两个外电极通电流,测量两个内电极上的电位差,再用公式2(取决于电极的排列)计算即可。为了理解这一原理,推荐你看看一篇文章:http://wenku.baidu.com/view/f0cf6fea81c758f5f61f671f.html,
这里有个地址是关于四探针法测试硅单晶电阻率的,里面有F(W/S)、F(S/D)、Ft各个修正系数想对应的值和计算方法,希望对你有所帮助,有什么不懂的可以再问我。http://ishare.iask.sina.com.cn/f/14182501.html?from=dl
首先你要先确定你的四个探针之间的间距是多少,如果相邻两个探针间距小于1/4CM的话你可以用2πS的电流进行测试,即电阻率=2πS*V*Fsp(Fsp为探针间距修正系数,刚开始用的话可以不考虑,当成是1),如果探针间距大于1/4CM的话可以设定电流I=W*F(W/S)*F(S/D),电阻率=V/I*W*F(W/S)*F(S/D)*Fsp*Ft,V为电压,I为电流,W为样品厚度,F(W/S)为厚度修正系数,F(S/D)为直径修正系数,Ft为温度修正系数。
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