微型探针台是一种可以在不同温度下对材料进行电学性能测试的设备，它有多种类型和应用，主要用于科学研究和教育实验。微型探针台的工作原理是通过探针与样品接触，形成电路，然后通过电学仪表测量样品的电阻、电容、电流、电压等参数，从而分析材料的特性。微型探针台可以测试不同尺寸和形状的样品，例如晶圆、芯片、封装器件、光电器件、材料片等。微型探针台是一种高精度、高效率、高灵活性的测试设备，对于推动材料科学和半导体技术的发展有重要作用。 优点： 体积小，便于搬运和安装。 精度高，能够对微米级的样品进行精确的测试。 操作方便，只需通过探针与样品接触，即可进行电学性能测试。 灵活性高，能够适应不同的测试环境和测试需求，例如高低温、高频、光电等。 ...

直流负压溅射和直流溅射 在直流溅射中，带正电的离子被吸引到接地的、带负电的溅射靶上，从靶材上溅射出原子，然后这些原子在样品（也称为衬底）上沉积形成薄膜。通常情况下，溅射靶被接到正极，而样品端（衬底）被接到负极或接地。 然而，有些情况下（如反溅射或偏压溅射），样品端会被接到正极以吸引多余的离子，从而实现清洁衬底表面或形成离子轰击确保薄膜和基底的结合强度。这种电源连接方式可以提高薄膜的层内应力，改善其结晶性能，以及提高薄膜沉积效率。 这种操作需要一定的注意事项，因为样品端上高电压可能会导致放电，影响设备的稳定性和薄膜的质量，还有可能对样品造成损坏。根据具体的设备设计和操作要求，可能需要在样品端和电源之间添加一个抗电弧装置来降低这种风险。 ...

探头故障现象 、 原因 及 排除方法 1、 沉积期间厚度读数大跳变 a. 不良晶片产生 解决方案： 更换晶 片 b. 晶片接近其使用寿命 解决方案： 更换晶 片 c. 晶片支承座表面有杂物 解决方案： 用酒精或细砂皮清洗支承座 d. 来自溅射源的频率干涉 解决方案： 检查接地，仪器远离溅射 源 2、 沉积期间晶体停振，但晶片寿命未到 a. 晶片被来自镀膜源熔化材料小熔 滴撞击 解决方案： 镀膜起始阶段用档板遮蔽 后移开 b. 不良晶片 解决方案： 更换晶片 c. 晶片支承座内腔表面有杂质 解决方案： 清洗 3 、晶体在真空中振荡，单暴露空气后停振 a. 晶体接近使用寿命，暴露空气 导致 薄膜氧化而引起薄膜压力增加 解决方案： 更换晶片 b. 晶片积累了过多水分 解决方案： 暴露空气之前关掉探头冷却水 ...

1、空气的液化温度取决于空气的组成成分。一般来说，空气主要由氮气、氧气和少量其他气体组成。在标准大气压下（约为1个大气压，相当于101.325千帕），液态氮的沸点约为-196摄氏度（-321华氏度），液态氧的沸点约为-183摄氏度（-297华氏度）。因此，空气的液化温度应该在这两个温度之间。请注意，这些数值是在标准条件下给出的，实际情况可能会受到气压和空气成分的变化而有所不同。 2、当空气的温度降低到液氮的沸点-196摄氏度（-321华氏度）以下时，氮气成分会开始液化，从气体状态转变为液体状态。这是因为在这个温度下，氮气的分子间相互作用足够强大，使得氮气分子聚集在一起形成液体。然而，其他成分如氧气等可能仍然处于气体状态，因为它们具有不同的沸点。因此，整个空气并不会完1全液化，而是部分液化。 3、这也是为何老师用冷井来过滤真空环境 就是大部分气体被冷井表面吸附 由于大部分气体被吸附 真空度才会更高 正常来讲 这个吸附得到的真空度比分子泵的效率更高 4、减少气体分子的热运动：液氮的极低温度可以降低气体分子的热运动，减少气体分子与容器壁之间的碰撞，从而减少气体分子进入真空室的数量。 凝固挥发性物质：在真空系统中，有些挥发性物质容易在较高温度下蒸发，从而增加气体分子的数量。通过液氮冷却，可以将这些挥发性物质冷却至低温，使其凝固或减少蒸发，从而减少气体分子的来源。吸附气体的冷凝：液氮冷却可以使吸附在真空系统内壁或其他表面上的气体冷凝为液体。这些吸附气体的冷凝可以减少系统内的气体分子数量，从而提高真空度。 ...

1. 工作频率：40KHz等离子清洗机的工作频率为40千赫（40,000赫兹），而13.56MHz等离子清洗机的工作频率为13.56兆赫（13,560,000赫兹）。工作频率不同会导致设备清洗效果和适用范围上的差异。 2. 清洗效果：40KHz的低频等离子清洗对于大多数材料都可以达到较好的清洗效果，但对于一些微米或亚微米级别的颗粒或污染物去除效果可能不佳。而13.56MHz高频等离子清洗则在去除颗粒尺寸较小的污染物方面具有更高的功效，能够提供更优越的清洗效果。 3. 清洗速度：13.56MHz等离子清洗速度相对更快，因为具有更高的频率，能更快地传递能量，从而更有效地去除表面污垢。 4. 适用范围：40KHz等离子清洗适用于大部分材料的表面清洗及去除较大颗粒尺寸的污染物，如塑料、金属、玻璃等材料。13.56MHz等离子清洗则更适用于对微米级污染物及颗粒清洗要求较高的应用，如微电子、半导体、光学等行业。 5. 成本：由于13.56MHz等离子清洗技术较复杂，设备制造成本相对较高，价格可能会比40KHz的设备更贵。但根据不同的实际应用需求，适用领域和性能要求可能需要使用较高成本的清洗设备。 综上所述， 40KHz和13.56MHz等离子清洗机主要区别在工作频率、清洗效果、清洗速度、适用范围及成本等方面，用户应根据自身的需求和应用领域选择合适的设备。 ...

1. 电感耦合（Inductively Coupled Plasma, ICP）： 电感耦合等离子体是通过高频磁场与等离子体的相互作用来传递能量的。在电感耦合的过程中，高频电流通过螺线管产生高频磁场，高频磁场切割等离子体产生涡旋电流，从而将能量传递给等离子体。这种方式的优点是稳定性好，能量传递高效，适用于高密度等离子体的产生，广泛应用于材料刻蚀、沉积和离子辅助沉积等领域。 2. 电容耦合（Capacitively Coupled Plasma, CCP）： 电容耦合等离子体是通过交变电场与等离子体的相互作用来传递能量的。在电容耦合的过程中，两个电极之间施加高频交变电压，由于等离子体与电极之间的电容效应，导致等离子体内部产生高频电场，从而将能量传递给等离子体。这种方式的优点是结构简单，能量传递相对低效，适用于低密度的等离子体产生，常用于等离子清洗、薄膜沉积等应用场景。 总结： 电感耦合和电容耦合的主要区别在于能量传递的方式，电感耦合通过高频磁场传递能量，适用于高密度等离子体；而电容耦合通过交变电场传递能量，适用于低密度等离子体。根据实际应用场景和等离子体要求，可以选择不同的能量传递方式。 ...

KT-Z1604T探针台主要应用于传感器，半导体，光电，集成电路以及封装的测试。 广泛应用于复杂、高速器件的精密电气测量的研发，旨在确保质量及可靠性，并缩减研发时间和器件制造工艺的成本。 该探针台的承载台为60x60不锈钢台面，台面最高可升温到最高350℃。真空腔体设计有进气口和抽真空接口。探针臂为X/Y/Z三轴移动，三个方向均可在真空环境下精密移位调节，其中X方向调节范围：0－30mm；y方向调节范围：0－20mm；z方向调节范围：0－20mm；用户可根据需要自行调节。使用时将需检测的器件固定在加热台上，再微调探针支架X/Y/Z 方向行程，通过显微镜观察，使探针对准检测点后，即可进行检测 ...

1100℃ 1500℃ 高温真空探针台温度稳定±1℃ 样品台26x26mm 同时可用于光学测试电学测试 光学反射透窗距样品间距9mm 可扩展透视窗透孔2mm 电学测试4探针 外接3同轴bnc 腔体不锈钢材质 180x90x37mm上下面水冷 该腔体设计有进气口和抽真空接口其真空度用机械泵可达＜5Pa分子泵可达＜-3Pa。真空信号连接处使用真空电极信号接头，保证气密性及抗干扰性能。使用时将需将待检测的器件方在加热台面，探针顶尖处由3轴可移动探针手动调节移动至被测试器件的引脚处，外部信号线连接测试仪器来测试电学信号。 ...

微型探针台尺寸小、重量轻，具备变温测试及真空测试功能，适用于科研工作，也适用于与其他仪器联用，是一款非常有特点的微探针系统。 郑科探真空探针台主要应用于传感器，半导体，光电，集成电路以及封装的测试。 广泛应用于复杂、高速器件的精密电气测量的研发，旨在确保质量及可靠性，并缩减研发时间和器件制造工艺的成本。 仪器特点： 工作距离短、尺寸小，带有视窗，可以与各种显微镜联用； 配备真空腔，有优异的气密性； 应用领域： 与拉曼光谱联用； 电致发光或荧光光谱测试(EL, PL)； 气体传感器(气敏测试)； 金属-绝缘体相变； 光电流扫描； I-V测试； 场效应晶体管测试； 热传导测试； 热磁滞研究； 铁电畴转换观测； 反射率测试； 霍尔效应测试； ...

问：1.质量流量控制器，为什么以SCCM和SLM为单位？ 答：从测量原理讲，热式质量流量计是通过利用气体的比热与密度，采用毛细管温差量热法进行测量，流量控制器测量的就是质量流量，但显示出的数值是通用的标况（101325 Pa; 0℃）体积流量。由于一般气体的密度都指标况下的密度，因此直接用体积乘以密度就可以得到所通过气体的质量。SCCM 与 SLM 为体积流量的行业标准单位，代表标况下的体积流量。SLM（Standard Liter per Minute）是表示每分钟标准升。SCCM（Standard Cubic Centimeter per Minute）是表示每分钟标准毫升。 问：2.流量控制器对使用条件和环境有什么要求？ 答：通常情况是环境温度，流量规格，压力根据产品的型号不同也有差异。 问：3.内漏与外漏区别是什么？ 答：内漏是指气体整个气路内部泄漏，主要是电磁调节阀关不死造成的；外漏是管路中气体漏到气路外部，主要是接头密封不严造成的。 问:4.设定点精度与满量程精度的区别是什么？ 答:设定点精度是相对于设定点本点的精度，满量程精度是相对于满量程流量的精度。举例：量程为 100SCCM 的流量控制器，当设定 50SCCM 时，其设定点精度为±0.5SCCM，即 50×（±1%）=±0.5SCCM；满量程精度为 ±1SCCM，即100SCCM×（±1%）=±1SCCM。 问:5.什么是产品响应时间？ 答:当流量设定点发生变化时，流量控制器的流量稳定达到流量设定点的一定范围内的最短时间。响应时间又分为气特性响应时间和电特性响应时间，气特性响应时间是指实际流量达到设定值所需的时间，电特性响应时间是指流量控制器的输出信号达到设定值所需时间，一般来说气特性响应要快于电特性响应。 ...

纤维（Fiber）是由连续或不连续的细丝组成的物质，可分为天然纤维和化学纤维。这两大类纤维被广泛应用于纺织 [1] 、环保 [3] 、生物医疗 [4] 等多个领域。由于纤维材料的表面物理形态和化学结构是决定材料性能的主要因素，通常需要利用相关的显微设备去观察纤维表面的微观形貌等信息，从而去判断纤维材料的基本性能。扫描电子显微镜作为一种常规的微观表征设备，其具有放大倍数大、分辨率高、景深大、图像清晰、立体感强等优点，当扫描电镜搭载能谱仪后还可以用于表征纤维成分信息，这在纤维的研发和生产中发挥着不可替代的作用。 随着人们生活品质不断提高，人们在选购衣物时不仅关注防寒保暖等基本能力，更追求多样的功能性。例如，常见的运动服装都需要具备较好的防水透湿性能，即在透气排汗的同时防止液态水接触人体。 目前防水透湿织物的主要研究方向是将功能薄膜与普通面料复合，以达到防水透湿的效果。据研究表明 [1] ，防水透湿织物常利用静电纺丝技术将纳米纤维膜与传统织物复合，形成层压织物以达到防水透湿的目的。而不同条件下静电纺的纳米纤维膜具有不同的孔隙结构和比表面积，因此常用扫描电子显微镜来检测多种条件下制备的纳米纤维膜，从而选择最佳的制造工艺以使其具有较高的孔隙率和较大的比表面积。 研究人员利用国仪量子钨灯丝扫描电子显微镜SEM3100对涤纶、丙纶和静电纺的纳米纤维等纺织纤维进行了观察研 我们可以快速清晰地观察出这些纤维的微观形貌。 从丙纶和涤纶的电镜图可以直观地看出，丙纶的纤维表面相比于涤纶较为光滑，且纤维的尺寸也较为均一。 从静电纺丝线可以看到纺丝对碳纤维的包裹情况，没有出现明显的缺陷，这间接验证了纺丝工艺的可靠性。 KT-1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。 ...

质量流量计为何要进行稳压补偿 常用的流量计大多只能够直接测量流体的体积，并不能直接测量质量，如果只测量流体在当前工况下的体积时，质量流量计仪表可以直接显示出来。但是如果要求流量计显示为流体质量时，需要通过计算即时采样的流体体积参数与密度参数相乘的积而得出结果(质量=密度X体积)而并非直接测量出流体的质量。 质量流量计作为流量仪表，它测量出来的数据一定要准确，如果要测量流体的质量时就涉及到一个问题：就是流体的密度是否恒定。如果流体的密度始终如一，那么只要把流体的密度参数固定在仪表上即可，但是 在流体的密度是不断变化的情况下，就要不断地根据当前流体的工况对流体的密度参数进行调整，这种在流量测量中，根据流体工况对流体密度参数的调整的做法就是密度补偿。 所谓的压力补偿实际上就是根据流体工况中的压力参数，来调整流体密度的数值。如果在测量中只根据流体工况中温度或压力两个参数之中的某一个参数来调整密度参数的做法叫温度补偿或压力补偿，但是如果同时根据温度和压力的参数来调整密度的参数做法叫做温度压力补偿。 ...

磁控溅射技术原理及应用简介 一、磁控溅射原理 磁控溅射是一种常用的物理气相沉积（ PVD ）的方法，具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好，成分接近靶材成分等众多优点。传统的溅射技术的工作原理是：在高真空的条件下，入射离子（ Ar + ）在电场的作用下轰击靶材，使得靶材表面的中性原子或分子获得足够动能脱离靶材表面，沉积在基片表面形成薄膜。但是，电子会受到电场和磁场的作用，产生漂移，因而导致传溅射效率低，电子轰击路径短也会导致基片温度升高，为了提高溅射效率，在靶下方安装强磁铁，中央和周圈分别为 N 、 S 极。电子由于洛伦兹力的作用被束缚在靶材周围，并不断做圆周运动，产生更多的 Ar + 轰击靶材，大幅提高溅射效率，如图所示，采用强磁铁控制的溅射称为磁控溅射。 图 1 磁控溅射原理 图 2 磁控溅射设备 二、磁控溅射优点 （ 1 ） 沉积速率快，沉积效率高，适合工业生产大规模应用 ； （ 2 ） 基片温度低，适合塑料等不耐高温的基材镀膜 ； （ 3 ） 制备的薄膜纯度高、致密性好、薄膜均匀性好、膜基结合力强 ； （ 4 ） 可制备金属、合金、氧化物等薄膜 ； （ 5 ） 环保无污染。 下图为铜膜 AFM 图 下图为铜膜光镜图 ...

叉指微电极因其微小的电极间距结构，可用于各种小型化传感器。对于传统分析检测，包括色谱法、光谱法、质谱等方法，大多都需要昂贵的仪器和多种操作步骤，使得许多实际问题仍面临困难。开发高灵敏度、低成本、小型化的传感器尤为重要。本文综述了叉指微电极的研究进展，介绍了基于叉指微电极的传感器在各领域的广泛应用。 小型真空探针台郑科探 KT-Z4019MRL4T 是一款性高价比配置的真空高低温探针台。 高温 400 ℃ 低 -196 ℃ 测试噪声小于 5E-13A 可扩展上下双透视窗口用于光电测试 可扩展凹视镜。公司致力于各类探针台，（包括手动与自动探针台、双面探针台、真空探针台、）、显微镜成像、光电一体化的技术研发，拥有国内专业的技术研发团队，在探针台电学量测方面拥有近十年的经验团队。 微电容单通道叉指电极探针台 ...

小型溅射仪 的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似一条摆线。   若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。    小型溅射仪 包括：气路、真空系统、循环水冷却系统、控制系统。其中：   (1)气路系统：与PECVD系统类似，磁控溅射系统应包括一套完整的气路系统。但是，与PECVD系统不同的是，PECVD系统中，气路中为反应气体的通道。而磁控溅射系统气路中一般为Ar、N2等气体。这些气体并不参与成膜，而是通过发生辉光放电现象将靶材原子轰击下来，使靶材原子获得能量沉积到衬底上成膜。   (2)真空系统：与PECVD系统类似，磁控溅射沉积薄膜前需要将真空腔室抽至高真空。因此，其真空系统也包括机械泵、分子泵这一高真空系统。   (3)循环水冷却系统：工作过程中，一些易发热部件(如分子泵)需要使用循环水带走热量进行冷却，以防止部件损坏。   (4)控制系统：综合控制PECVD系统各部分协调运转完成薄膜沉积，一般集成与控制柜。 ...

小型溅射仪仪问仪答 最近小伙伴对于溅射仪使用和技术参数问的问题比较多，今天总结一下溅射仪的一些常见的技术问题： 1、膜厚检测仪原理：膜厚监测仪是采用石英晶体振荡原理，利用频率测量技术加上先进的数学算法，进行膜厚的在线镀膜速率和实时厚度计算。主要应用于MBE、OLED或金属热蒸发、磁控溅射设备的薄膜制备过程中，对膜层厚度及镀膜速率进行实时监测。 2、溅射仪是否可以镀镍：可以镀镍 但是 镍是导磁金属 所以 需要靶材尽量薄 0.5mm-1mm最好 太厚磁场无法穿透 溅射速率很低。 3、直流溅射镀膜调节：1 靶材需要良好的导电性, 如果具备这个条件 可以镀 2 遇到容易氧化的金属 需要配备分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氩气维持真空到1Pa左右镀膜的金属接近本色。 郑科探小型溅射仪KT-Z1650PVD 以上是小伙伴近期问的比较多的问题，如果还有什么问题欢迎咨询。 ...

塞贝克系数（ Seebeck Coefficient）也称为热电偶效应或Seebeck效应，是指两种不同导体（或半导体）材料在一定温差下产生热电动势的现象。塞贝克系数是研究热电材料（将热能转化为电能的材料）非常重要的一个参数，它用来衡量材料在一定温差下产生的热电压。 塞贝克系数的测量方法有很多种，其中一种常用的方法是恒流法。首先准备一个热电偶，它由两种不同材料的导线组成。然后将热电偶的其中一个节点保持在恒定的高温 T1，而另一个节点保持在低温T2（不同于T1），使热电偶产生热电动势（热电压）。通过测量恒流状态下的电压值V以及温差ΔT，可以计算出塞贝克系数： S = V / ΔT。 另外，还有一些其他的测量方法如闭环法、开路法等，各种方法都有其优缺点，具体选择哪种方法取决于实际的测试环境和需求。 解释塞贝克系数测量原理。 塞贝克系数（也称为 Seebeck系数）是一个描述一个材料热电效应特性的参数，具体地说，它表示了一个材料中的电流与横向温差将产生的电压之间的关系。测量塞贝克系数的原理主要基于Seebeck效应。Seebeck效应是指在一种导体材料中，当两个不同导体之间有一个温差时，将产生一个电压。 测量塞贝克系数的实验装置通常包括以下部分： 1. 绝热材料底座：确保测试样品的温度稳定。 2. 样品夹持器：保持测试样品的固定。 3. 加热器：用于在样品的一端创建温差，从而在样品中产生Seebeck电压。 4. 冷却器：在样品的另一端保持较低的温度。 5. 热电偶：用于测量样品两端的温差。 6. 电压测量仪器：用于测量生成的Seebeck电压。 在测量过程中，首先将测试样品固定在夹持器中，然后通过在样品的一端加热和在另一端冷却来创建稳定的温差。 Seebeck电压将在样品两端形成，然后可以使用电压测量仪器将其测量出来。计算塞贝克系数所需的公式是： Seebeck系数 = (产生的电压) / (热电偶测量的温差) 通过测量此特定温差下生成的 Seebeck电压，我们可以计算出材料的塞贝克系数。 ...

本产品为6英寸高低温热台，能够在高温400度和低温-120度的环境中工作。它是一种用于实验室、研究及工业生产过程中进行精确温度控制的设备，广泛应用于各类材料的热处理、热性能测试、化学反应、生物样品处理等方面。本产品具有温度范围广、控温精度高、操作简便及使用安全等特点，是实验室及工业领域非常理想的高低温热台设备。 产品用途： 1. 材料热处理：广泛应用于金属、陶瓷、塑料、粉末、纳米材料等领域的热处理、退火、焊接和熔化等工艺过程。 2. 热性能测试：可用于材料的导热系数、热膨胀系数、比热容等热物性参数的测量和分析。 3. 化学反应：可提供低温或高温环境，以达到促进化学反应平衡、提高反应速率、减少副反应等目的。 4. 生物样品处理：可在低温条件下保持或处理生物样品，以维持其活性、降低降解速度等。 5. 制冷与制热：可提供高效的热交换方式，实现物品的快速制冷或制热，以满足各种工程及科研应用需求。 产品介绍： 1. 温度范围：6英寸高低温热台能够在-120℃至400℃的温度范围内提供精确、稳定的温度控制。 2. 温度控制：采用高精度微处理器PID控制器，具备30段温度设定、实时曲线显示、确保温度控制的精确性和稳定性。 3. 加热系统：采用优质电热元件及导热介质，实现均匀、快速的加热，确保热台与物品间的良好热接触。 4. 冷却系统：采用液氮流量控制，提供高效的制冷效果；同时具备PID调节系统，实现低温控制的稳定性。 5. 结构设计：6英寸高低温热台采用优质不锈钢制作表面研磨平整，具备良好的耐腐蚀、抗氧化性能，适应各种恶劣环境。 6. 安全保护：设备具有过热保护、过流保护、缺相保护等多重安全措施，确保设备安全稳定运行。 ...

同轴真空BNC接头是一种常见的射频连接器，广泛应用于射频和微波通信、数据处理及测量设备。BNC（Bayonet Neill-Concelman）接头是由美国的Paul Neill和Carl Concelman于1945年发明的。以下是同轴真空BNC接头的一些特点和优势： 1. 易于连接和断开：BNC接头采用了快速卡口式结构，使得连接和断开变得非常方便。用户只需将插头插入座子，然后旋转90度即可完成连接。 2. 较低的插损：同轴真空BNC接头的设计使得在连接过程中的信号损失较低，提高了设备的性能。 3. 良好的屏蔽性能：BNC接头具有良好的屏蔽性能，能有效阻止外部电磁干扰，确保信号的稳定传输。 4. 兼容性强：BNC接头广泛应用于各种设备之间的连接，具有很强的通用性和兼容性。 5. 经济实用：同轴真空BNC接头的生产成本相对较低，使得它在许多应用场景中成为主要的连接器。 6. 频率范围：BNC接头的工作频率范围可达到4 GHz，适用于多种射频和微波通信场景。 7. 真空兼容性：同轴真空BNC接头经过特殊处理，可在真空环境中使用，适用于高真空和超高真空系统。 需要注意的是，随着通信技术的发展，BNC接头的频率范围可能不足以满足一些高性能应用的需求。在这种情况下，可以考虑使用其他更高频率的同轴连 ...

这个带有湿度控制的气体浓度发生器具有一系列强大的功能和性能参数，特别适合需要在高湿度和宽范围气体浓度中准确控制和检测的应用。以下是一些关键的性能参数和特性： - AI智能控制算法：采用先进的AI智能控制算法，能够在大范围的气体浓度比例下准确稳定地控制气体湿度。 - 宽广的浓度稀释范围：该设备的浓度稀释范围为1-5000倍，适应各种应用环境。 - 高精度流量检测：流量检测精度可达到±1% F.S，流量线性为±0.2% F.S，保证了流量控制的高精度。 - 广泛的湿度控制范围：湿度控制范围为5％-95％，可以适应各种湿度环境。 - 高精度湿度检测和控制：湿度检测精度为±0.8％RH，湿度控制精度为±0.5％RH，确保了湿度控制的精确性。 - 气体温度检测：设备还配备了气体温度检测功能，温度检测范围为-50℃-100℃。 这些特性使得这个气体浓度发生器可以应用于一系列的科研、工业和环境监测应用，提供准确、稳定的气体浓度和湿度控制。 ...