1、样品台旋转，多样品同时镀膜时，镀膜厚度比较均匀。 2、预溅射挡板功能，刚开始镀膜的时候腔室里会有些杂质，挡板可以保护样品，提高薄膜质量 3、带有水冷系统，可以长时间溅射镀膜，厚度可达1微米以上。 4、直流磁控溅射，提高附着力，溅射速率快，比离子溅射快上一个量级。针对某些金属最快能达到1-2纳米每秒， 5、不但可以电镜制样，还可以制作金属电极。 6、可扩展膜厚监测，监测薄膜厚度。 溅射仪使用需注 1 靶材需要良好的导电性, 如果具备这个条件 可以镀 2 遇到容易氧化的金属 需要配备分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氩气维持真空到1Pa左右镀膜的金属接近本色 ...

1000度高温真空探针台，主要应用于半导体、材料科学、纳米技术、光电子、薄膜技术等领域，具有以下用途： 1. 半导体器件测试与表征：用于不同温度下的半导体料件、电子器件和光电子器件的性能测试和分析。 2. 材料性能表征：研究和测试材料在不同温度下的电学、磁学、光学等性能，以及材料的稳定性和可靠性。 3. 纳米结构与纳米器件研究：在纳米尺度上测量纳米结构与纳米器件的电学性能，及其在高温真空环境中的稳定性和可靠性。 4. 薄膜与界面性能研究：在真空环境中测试薄膜、多层膜和薄膜器件等的电学、光学性能，以及薄膜与界面状态的评价。 5. 表面处理与效应研究：对材料表面进行表征，并在高温真空条件下研究表面处理方法，如氧化、氮化、硅化等的效应。 6. 功能材料及元器件的研发：开展各种功能材料及元器件的研究与开发工作，提高材料的性能水平，为电子、光电子、讯通等新技术的应用提供支持。 7. 微电子技术与工艺研究：探索制备新型而高效的微电子器件，开发具有市场竞争力的微电子器件和工艺。 8. 热学性能测试与研究：测量和研究新材料、新器件以及其它元器件在不同温度下的热学性能，如热导率、热膨胀系数等。 1000度高温真空探针台用于研究多种材料和器件在不同温度和真空环境下的性能、可靠性和稳定性，为新材料、新器件和新技术的开发与应用提供强有力的科学依据。 ...

怎么判断哪些东西可以封？ 1，高温不熔化。 2、高温下不与石英管产生反应。 3、液体没办法抽真空，液体里又氧气。 对封管机 场地的要求？ 氢氧水焊机需要通风。 石英管封口要预留多长？ 要留50mm-70mm（石英管内如果是熔点低物品，最少70），夹头伸进去要30mm。 封管机产品优势： 1、 每个设备出厂有经过氦质谱捡漏测试确保气密性 2、 设备磁流体密封件接触气体部分采用陶瓷轴承 高成本带来的是耐腐蚀（普通轴承易生锈 只要腐蚀轴承就会抱死不转） 3、我们是最早一批研发生产此产品的供货商 工程师们都有着丰富的售后经验。 4、因为有些客户封的有可能是粉末，我们使用的高精密挡板阀，增加分流阀，有效避免粉末倒吸，防止因操作不当就会倒吸到泵组里面 导致泵组损坏。 5、好多客户是分子泵，还有些是进口泵，泵组坏了，返厂维修时间周期会很长，影响后期实验的进度 6、产品经过不断的更新迭代，以达到设备小，不占用实验室太多空间，并且真空接头少，真空效果更好 7、产品功能完善，不但可以调节高度，还可以调整试管的倾斜度。 8、避免木制台面导致火焰机固定不稳等问题，封管机底部增加火焰机支架，使用时会更加的安全方便。 ...

等离子清洗机的优势： 1：真空度：用皮拉尼原理测量精确到Pa， 千帕是 用压力规测试，不是一个量级的。 2：传感器：用的进口的气体流量传感器，是质量流量计检测气体，精确度是通入流量的±1.5%。浮子流量计，是满量程的4%，而且浮子球是上下浮动，手碰一下乱跑，真实效果达不了那么高。 4：功率是150W，国内都是统一的。 5：2路流量计，质量流量计采集更精准，流量控制 2个精密针阀调节，线性调节度较好。 6： 真空采集皮拉尼原理真空计，测量大气压到0.1Pa的绝对真空。 7： 通过精准的流量检测及真空采集 使自动控制一气呵成，通过检测固定的真空值让射频辉光，即使是手动匹配射频电源，也只需要匹配一次，下次相同工艺，基本不需要再次调节匹配 。 问：清洗光刻胶可以吗？ 答：简单的理解就是用氧气把光刻胶燃烧掉，光刻胶的基本成分是碳氢有机物，在射频或微波作用下，氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通过泵被真空抽走，完成光刻胶的去除。 问：可以去除表面杂质和一些胶嘛？ 答：这个就是清洗半导体芯片表面缠杂的胶和杂质，可以去除纳米级别的微小的胶和其它颗粒或者薄膜。 问：操作方便嘛 答：操作很方便。开关打开后，石英腔体抽真空，然后产生等离子，等离子和表面的污染物产生反应，产生废气，真空泵把废气抽走，等离子清洗机里面有一个托盘，咱们把产品放托盘上面，就可以清洗了。 ...

高温蒸镀的时候，靶材和坩埚应该怎么选择 蒸镀 镀铝 建议客户用陶瓷坩埚 ：用钨舟的话容易附着上边 且铝融化后有一定的浸润 会与钨舟形成合金 钨舟容易脆裂 断开，铝极易氧化 可以多抽一会真空 真空度越低 效果越好 蒸镀 镀镍 建议客户用钨棒惨绕镍丝，钨舟很薄 在一定温度下化合生成合金相加速钨的断裂 解决方案：用1.5-2mm的钨棒 长度 95-100 中间 10mm处绕高纯镍丝( 缠绕紧密一些 可惨绕2层) ...

针对光学和介电功能薄膜制备中的离化率低和靶面污染问题,设计了一种磁控溅射沉积系统,系统包括磁控溅射靶装置、等离子体源和阳极清洗装置。 主要结论有: (1)在磁控溅射靶装置设计中,采用磁流体密封替代橡胶轴承密封,提高了靶装置的密封性,极限真空度可达10-6 Pa;采用旋转磁钢代替固定磁钢,使靶材的利用率从30%提高到60%,同时避免了靶装置在预先清洗时的污染;设计了靶装置的驱动端,完成了电机、传动装置和轴承的选型。 (2)设计等离子体源来改善沉积系统离化率不足的问题。选择0.2 mm钨丝制成阴极,坩埚作为阳极。利用基尔霍夫定律计算出螺旋管的长度与横截面积。比较了等离子体源的四种电源连接方式,选择在螺旋管两端加入辅助调节电源,方便调节电磁场的方式。 (3)设计了阳极清洗装置来解决磁控溅射中的阳极污染问题。阳极清洗装置包括可旋转阳极和清洗装置两部分,设计了多套清洗装置协同工作时的电源连接方式。制定了冷却系统方案和管路图来满足系统的冷却设计要求。设计了一套供气系统,根据设计要求确定了电磁阀和质量流量计的型号。 ...

质量流量计为何要进行稳压补偿 常用的流量计大多只能够直接测量流体的体积，并不能直接测量质量，如果只测量流体在当前工况下的体积时，质量流量计仪表可以直接显示出来。但是如果要求流量计显示为流体质量时，需要通过计算即时采样的流体体积参数与密度参数相乘的积而得出结果(质量=密度X体积)而并非直接测量出流体的质量。 质量流量计作为流量仪表，它测量出来的数据一定要准确，如果要测量流体的质量时就涉及到一个问题：就是流体的密度是否恒定。如果流体的密度始终如一，那么只要把流体的密度参数固定在仪表上即可，但是 在流体的密度是不断变化的情况下，就要不断地根据当前流体的工况对流体的密度参数进行调整，这种在流量测量中，根据流体工况对流体密度参数的调整的做法就是密度补偿。 所谓的压力补偿实际上就是根据流体工况中的压力参数，来调整流体密度的数值。如果在测量中只根据流体工况中温度或压力两个参数之中的某一个参数来调整密度参数的做法叫温度补偿或压力补偿，但是如果同时根据温度和压力的参数来调整密度的参数做法叫做温度压力补偿。 ...

小型溅射仪 的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似一条摆线。   若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。    小型溅射仪 包括：气路、真空系统、循环水冷却系统、控制系统。其中：   (1)气路系统：与PECVD系统类似，磁控溅射系统应包括一套完整的气路系统。但是，与PECVD系统不同的是，PECVD系统中，气路中为反应气体的通道。而磁控溅射系统气路中一般为Ar、N2等气体。这些气体并不参与成膜，而是通过发生辉光放电现象将靶材原子轰击下来，使靶材原子获得能量沉积到衬底上成膜。   (2)真空系统：与PECVD系统类似，磁控溅射沉积薄膜前需要将真空腔室抽至高真空。因此，其真空系统也包括机械泵、分子泵这一高真空系统。   (3)循环水冷却系统：工作过程中，一些易发热部件(如分子泵)需要使用循环水带走热量进行冷却，以防止部件损坏。   (4)控制系统：综合控制PECVD系统各部分协调运转完成薄膜沉积，一般集成与控制柜。 1、膜厚检测仪原理：膜厚监测仪是采用石英晶体振荡原理，利用频率测量技术加上先进的数学算法，进行膜厚的在线镀膜速率和实时厚度计算。主要应用于MBE、OLED或金属热蒸发、磁控溅射设备的薄膜制备过程中，对膜层厚度及镀膜速率进行实时监测。 2、溅射仪是否可以镀镍：可以镀镍 但是 镍是导磁金属 所以 需要靶材尽量薄 0.5mm-1mm最好 太厚磁场无法穿透 溅射速率很低。 3、直流溅射镀膜调节：1 靶材需要良好的导电性, 如果具备这个条件 可以镀 2 遇到容易氧化的金属 需要配备分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氩气维持真空到1Pa左右镀膜的金属接近本色。 郑科探小型溅射仪KT-Z1650PVD 以上是小伙伴近期问的比较多的问题，如果还有什么问题欢迎咨询。 ...

塞贝克系数（ Seebeck Coefficient）也称为热电偶效应或Seebeck效应，是指两种不同导体（或半导体）材料在一定温差下产生热电动势的现象。塞贝克系数是研究热电材料（将热能转化为电能的材料）非常重要的一个参数，它用来衡量材料在一定温差下产生的热电压。 塞贝克系数的测量方法有很多种，其中一种常用的方法是恒流法。首先准备一个热电偶，它由两种不同材料的导线组成。然后将热电偶的其中一个节点保持在恒定的高温 T1，而另一个节点保持在低温T2（不同于T1），使热电偶产生热电动势（热电压）。通过测量恒流状态下的电压值V以及温差ΔT，可以计算出塞贝克系数： S = V / ΔT。 另外，还有一些其他的测量方法如闭环法、开路法等，各种方法都有其优缺点，具体选择哪种方法取决于实际的测试环境和需求。 解释塞贝克系数测量原理。 塞贝克系数（也称为 Seebeck系数）是一个描述一个材料热电效应特性的参数，具体地说，它表示了一个材料中的电流与横向温差将产生的电压之间的关系。测量塞贝克系数的原理主要基于Seebeck效应。Seebeck效应是指在一种导体材料中，当两个不同导体之间有一个温差时，将产生一个电压。 测量塞贝克系数的实验装置通常包括以下部分： 1. 绝热材料底座：确保测试样品的温度稳定。 2. 样品夹持器：保持测试样品的固定。 3. 加热器：用于在样品的一端创建温差，从而在样品中产生Seebeck电压。 4. 冷却器：在样品的另一端保持较低的温度。 5. 热电偶：用于测量样品两端的温差。 6. 电压测量仪器：用于测量生成的Seebeck电压。 在测量过程中，首先将测试样品固定在夹持器中，然后通过在样品的一端加热和在另一端冷却来创建稳定的温差。 Seebeck电压将在样品两端形成，然后可以使用电压测量仪器将其测量出来。计算塞贝克系数所需的公式是： Seebeck系数 = (产生的电压) / (热电偶测量的温差) 通过测量此特定温差下生成的 Seebeck电压，我们可以计算出材料的塞贝克系数。 ...

1、样品台旋转，多样品同时镀膜时，镀膜厚度比较均匀。 2、预溅射挡板功能，刚开始镀膜的时候腔室里会有些杂质，挡板可以保护样品，提高薄膜质量 3、带有水冷系统，可以长时间溅射镀膜，厚度可达1微米以上。 4、直流磁控溅射，提高附着力，溅射速率快，比离子溅射快上一个量级。针对某些金属最快能达到1-2纳米每秒， 5、不但可以电镜制样，还可以制作金属电极。 6、可扩展膜厚监测，监测薄膜厚度。 溅射仪使用需注 1 靶材需要良好的导电性, 如果具备这个条件 可以镀 2 遇到容易氧化的金属 需要配备分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氩气维持真空到1Pa左右镀膜的金属接近本色 ...