四氟甲烷是一种在微电子工业中广泛应用的等离子蚀刻气体。它被用于蚀刻硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻璃等材料，同时也在电子器件表面清洗、太阳能电池生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂和制动液等方面有广泛应用。由于其化学稳定性强，四氟甲烷还可以用于金属冶炼和塑料等行业。目前，四氟甲烷以其相对低廉的价格在蚀刻气体市场上占据主导地位，具有巨大的发展潜力。
四氟甲烷的合成工艺包括烷烃直接氟化法、氟氯甲烷氟化法、氢氟甲烷氟化法和氟碳直接合成法。目前工业上主要采用氟碳直接合成法，该方法具有原料易得、反应可控和产物纯度高的优点。该方法已实现工业化生产，产品纯度高达99.99%以上，能够满足电子工业的需求，成为制备四氟甲烷的主要方法。
未来，如果OLED新工艺取得突破，对四氟甲烷的需求将会显著增加。预计2021年国内四氟甲烷的需求量将超过3000吨，而2025年有望超过8000吨。
目前我国半导体工厂的四氟甲烷50%来自于日本，国内的主要生产厂家有科美特和华特气体等。科美特的年产能为1200吨，其四氟甲烷气体纯度高、质量稳定，已成为全球最大晶圆制成公司台积电的合格供应商。此外，昊华科技的全资子公司黎明院计划投资建设1000吨/年的四氟甲烷项目，一旦投产，黎明院将成为国内第二大四氟甲烷生产厂商。
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