六氟乙烷在半导体与微电子工业中具有多种应用，包括等离子蚀刻气体、器件表面清洗剂、光纤生产和低温制冷。其无毒无臭、高稳定性的特点使其在半导体制造过程中得到广泛应用，例如作为蚀刻剂、化学气相沉积(CVD)后的清洗气体，以及在等离子工艺中作为干蚀气体。
近年来，随着半导体行业的迅猛发展，对电子特气的纯度要求越来越高。六氟乙烷由于具有边缘侧向侵蚀现象极微、高蚀刻率及高精确性的优点，解决了常规湿法腐蚀不能满足0.18-0.25μm的深亚微米集成电路高精度细线蚀刻的问题，可以满足此类线宽较小的制程要求。在以SiH4为基础的各种CVD制程中，六氟乙烷作为清洗气体，与甲烷相比具有排放性低、气体利用率高、反应室清洁率和设备产出率高等特点。因此，高纯六氟乙烷是超大规模集成电路所必需的介质，对半导体行业的发展起着重要的作用。
目前六氟乙烷的制备方法有多种工艺路线，包括电化学氟化法、热解法、金属氟化物氟化法、氟化氢催化氟化法和直接氟化法。其中，电化学氟化法是通过乙炔、乙烯或乙烷在电解条件下氟化；热解法是通过四氟乙烯和CO2之间的热分解反应制备；金属氟化物氟化法是通过乙炔、乙烯和乙烷与金属氟化物进行反应；氟化氢催化氟化法是在催化剂存在下氟化全卤代乙烷化合物(C2FxCly)；直接氟化法是通过活性炭、乙炔、乙烷和五氟乙烷等气体直接与氟气反应。
目前国内半导体级六氟乙烷生产商主要有华特股份和中船重工718所。两者的产能分别为350吨/年和50吨/年，新增产能分别为100吨/年和60吨/年。华特股份的新增产能是科创板募投项目，中船重工718所的新增产能于2018年12月环评公告。此外，华安新材料具备300吨的六氟乙烷产能，但主要用于制冷剂产品；巨化股份参股公司博瑞电子计划建设55吨的六氟乙烷产能，该计划于2019年2月环评公告。
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