米吡氯铵是一种处理液，可以用于抑制由氧化硅形成的微细结构体的图案倒塌。它可以应用于制备半导体装置和微机械等微细结构体的图案倒塌的处理液。
具体应用举例如下：
一种用于抑制微细结构体的图案倒塌的处理液，其成分包括选自具有碳原子数12、碳原子数14或碳原子数16的烷基的咪唑鎓卤化物、具有碳原子数14或碳原子数16的烷基的吡啶鎓卤化物和具有碳原子数16或碳原子数18的烷基的卤化铵中的至少一种，以及水。其中，烷基的碳原子数分别为十二烷基、十四烷基、十六烷基和十八烷基；咪唑鎓卤化物可以是1-十二烷基-3-甲基氯化咪唑鎓、1-十四烷基-3-甲基氯化咪唑鎓和1-十六烷基-3-甲基氯化咪唑鎓中的一种以上；吡啶鎓卤化物可以是十四烷基氯化吡啶鎓、十六烷基氯化吡啶鎓、1-十四烷基-4-甲基氯化吡啶鎓（即米吡氯铵）和1-十六烷基-4-甲基氯化吡啶鎓中的一种以上；卤化铵可以是十六烷基三甲基氯化铵、十八烷基三甲基氯化铵、苄基二甲基十六烷基氯化铵和苄基二甲基十八烷基氯化铵中的一种以上。咪唑鎓卤化物、吡啶鎓卤化物和卤化铵的含量可以在10ppm～10%之间。
制造方法如下：
在湿式蚀刻或干式蚀刻之后的洗涤工序中，使用含有选自具有碳原子数12、碳原子数14或碳原子数16的烷基的咪唑鎓卤化物、具有碳原子数14或碳原子数16的烷基的吡啶鎓卤化物和具有碳原子数16或碳原子数18的烷基的卤化铵中的至少一种及水的处理液，以抑制微细结构体的图案倒塌。其中，微细结构体可以是半导体装置或微机械。
主要参考资料：
[1] CN201180043424.0 用于抑制微细结构体的图案倒塌的处理液和使用该处理液的微细结构体的制造方法
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