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如图所示,席夫碱的合成及还原?

本人在做氨糖席夫碱的合成时遇到了几个问题想请教一下各位老师:
1、我的胺已经过量了,t=30摄氏度,反应了一天,醛还是反应不完(tlc检测原料点还在);
2、在醛还没反应完的情况下,我直接加入2当量的三乙酰基硼氢化钠(STAB)进行席夫碱的还原,大概一小时后点板发现原料点竟然消失了,反应液中只有一个新点。。。这是什么情况?STAB会还原醛吗?
请各位老师不吝赐教,我会小红花伺候


SB还原.png
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共8个回答
补充一下,这个最后的新点和席夫碱的点位置一致,略高一点点点,如果是还原为仲胺了应该极性比席夫碱大呀,在他下面才是啊。。。搞糊涂了都
另外,取样tlc的时候要不要处理一下?会不会产物仲胺和醋酸成盐?

第一步把溶剂换甲醇试试,室温四五个小时
试过多种溶剂,但是dryDCM是最好的,没有杂点生成。我觉得关键在于第二步,刚刚把分离的席夫碱拿去做还原,1h了还是没有反应发生。
第一步把溶剂换甲醇试试,室温四五个小时

醛被还原会发生,第一步尽量让醛反应完全,想办法除除水免得亚胺逆回去。这个氨基是什么构象,直立还是平伏,位阻情况怎么样
醛被还原会发生,第一步尽量让醛反应完全,想办法除除水免得亚胺逆回去。这个氨基是什么构象,直立还是平伏,位阻情况怎么样
不太了解这个位阻对于这个还原是否有比较大的影响?看过一篇文章是关于壳聚糖席夫碱的还原,用的STAB与等摩尔的醋酸在DCM中室温反应,我这个里面没有加醋酸,是不是应该加点催化量的?
可以分批加STAB,避免原料醛基被还原成醇

可以分批加STAB,避免原料醛基被还原成醇
如果还原为醇那也应该有新的点出现呀?

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