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用丁二酸酐对羟基喜树碱进行修饰后处理问题？

大哥们救救我吧

我用丁二酸酐对羟基喜树碱上的羟基进行修饰，用吡啶做溶剂，DMAP做催化剂，羟基喜树碱和丁二酸酐的比例为1:4。60摄氏度反应24小时。

反应结束后TLC点板有原料点和我的产物点。过柱分离（洗脱剂为二氯比甲醇10:1），原料点很快就出来了，但是要洗脱很久，而且和我的产物点分不开，我要怎么办啊呜呜呜呜，试了跑大板也是分不开……

还有什么办法可以把它们分开吗，救救孩子吧

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