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急急急,先谢谢各位啦?

请问各位友友,氧化铝表面羟基测定时用普通红外还是原位红外呀?我做了普通红外可是在3400-3800波数处有一个较大的水吸收峰这是这是怎么回事呀?请各位解答
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共4个回答
应该是羟基峰
原位红外测试!测氧化铝或者氧化硅、硅铝分子筛等表面羟基,必须是要经过真空高温脱水处理,排除水分子的干扰,
原位红外测试!测氧化铝或者氧化硅、硅铝分子筛等表面羟基,必须是要经过真空高温脱水处理,排除水分子的干扰,
应该是羟基峰
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