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以二氧化硅为模板合成多孔氮化碳,氢氟酸去除模板,去不干净怎么办?

拍TEM明显感觉氮化碳上有黑色的阴影。
用20%氢氟酸超声半小时,静置5小时,重复三次,还是效果不好。
感觉二氧化硅被氮化碳包裹。
大家有什么好办法吗。

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共2个回答
大佬看看

...
我没看出哪里有明显的SiO2啊,我建议你做EELS或者EDS证明下元素分布哈
上图
大佬看看




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