我的是氮掺杂的碳材料，在0.1 MKOH下进行的氧还原
测试。因为刚接触，很多东西不懂，希望大神能帮忙解释一下
1，首先是第一张图，是1600RPM下的。就是为什么在-0.3V会出现谷值，难道是因为惯性（？？？）为什么有些材料不会出现这个？用铂碳测试的时候，有时候有，有时候没有。。。请求机理上的解释
2.其次是电压变负时电流密度一直增大，请问这是为什么，没有到达极限电流吗，为什么加金属后就会很平，氮掺杂碳材料一般不会平？
3最后是第二张图，是通过旋转圆盘圆环测试计算出的N值，为什么在-0.45V附近会出现谷值，请问这种情况要怎么解释，我看其他材料没我这样的。此外，n值为什么会随着电压改变而改变呢（恕我无知）
拜托朋友了，可以的话附上文献最好:??金币不够可以加，拜托了
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