随着电子工业的迅猛发展，对电子工业生产用水的纯度要求也越来越高。传统的蒸馏水已经无法满足电子管、半导体器件和固体电路等产品的生产需求。例如，现在半导体集成电路的集成度已经达到了0.002mm左右，相邻两个元件之间的距离只有0.1mm，这意味着即使有微小的污染微粒，也可能损坏上百个元件。因此，纯水及高纯水在电子器件的生产中扮演着重要的角色。
纯水，也称为去离子水或除盐水，是指水中剩余含盐量一般在1.0mg/L以下，25°C时水的电阻率应为1.0×10^10Ω·cm。
高纯水是指不仅将水中的导电物质几乎完全除去，而且将水中残存的胶体物质、气体以及有机物等也已清除至很低程度的水。水中剩余含盐量在0.1mg/L以下，25°C时水的电阻率应达到10^2Ω·cm，接近纯水的理论值。
目前，电子工业对不同产品的水质要求尚无统一的规范，表4-3及表4-4所列数据仅供参考。
根据原水中存在的杂质情况和对水质的要求，电子工业用水的处理系统分为“一次纯水系统”和“二次纯水系统”。全厂集中处理的“一次纯水系统”多采用电渗析(或反渗透)与混合床离子交换串联处理或电渗析与阴阳离子交换，混合床离子交换多级串联组成。在靠近生产的使用点设置“二次纯水系统”，它将“一次纯水系统”的出水经紫外线(257.3nm的波长)杀菌，混床离子交换以及超滤或微孔滤膜过滤后得到超纯水。
清洗零件后的排放水相对较纯，其电阻率约在3M9Ω·cm，可以回收再处理除去其中的有害成分，再加以利用。这样可以减轻水处理装置的负荷并降低运行费用。下图为超纯水生产流程示意图。
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