一般单晶硅、多晶硅表面清洗都是碱性的，对硅片无腐蚀，去除硅片表面的油脂和重金属离子。可参考下面的配方：
TX-10 2%
喜赫FMES 2%
三乙醇胺油酸皂 2%
EDTA 4钠 0.1%
二乙二醇丁醚 3%
硅酸钠 1%
氢氧化钾 2%
水补足100%
