关于光刻胶+掩膜+UV的光刻蚀的问题：是否做凹坑就本身比做凸起困难?

这里用的是1002F光刻胶，类似SU-8，受到紫外照射之后固化。厚度为200微米。

我们发现，用同样精度的两种光掩模，一种是透明底上的黑点，一种是黑底上的白点。白点的光刻效果（凸起）会比黑点的效果（凹坑）好很多。但是我们需要的微结构最好是凹坑，请各位大神指导一下，如何提高这里凹坑的光刻效果