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同位镀铋膜测重金属?

同位镀铋膜测重金属实验中,参考文献说:每次测量前,将电极置于空白溶液中,施加0.6V电压180s,请问这个技术在电化学工作站上用的是什么技术,怎么设置?谢谢各位了!
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共7个回答
我用的溶出伏安法,文献上说做完一次做下次之前要用电化学方法清洗,清洗未彻底溶出的物质,如果用打磨的方法有点麻烦了。我用恒电位沉积试一下吧... 那就按文献的做就行,因为即使有残留的话,也是非常非常少的,可能对下一步反应也许影响不大。
你说的恒电位沉积和I-T是一样的,和计时电流方法是不一样的,你看看他们方法的设置参数是有区别的,还有你说的清洗,如果不用为什么不打磨呢??为啥非要用不清楚的电化学清洗??如果非要用电化学清洗,估计不太好 ... 我用的溶出伏安法,文献上说做完一次做下次之前要用电化学方法清洗,清洗未彻底溶出的物质,如果用打磨的方法有点麻烦了。我用恒电位沉积试一下吧
你这个方法应该是I-T测试,或者是计时电流,但是同位镀为什么在空白中0.6V-180s,不是很明白 这个不是同位镀的过程,这个是电化学清洗,清洗电极上面未溶出彻底的铋和待测金属。还想请教下:I-T测试时设置一个电位一个时间,恒电位沉积也是设置电位和时间,这两个技术一样么,还有清洗之后怎么能知道它清洗彻底了呢
你这个方法应该是I-T测试,或者是计时电流,但是同位镀为什么在空白中0.6V-180s,不是很明白
这个不是同位镀的过程,这个是电化学清洗,清洗电极上面未溶出彻底的铋和待测金属。还想请教下:I-T测试时设置一个电位一个时间,恒电位沉积也是设置电位和时间,这两个技术一样么,还有清洗之后怎么能知道它清洗彻 ... 你说的恒电位沉积和I-T是一样的,和计时电流方法是不一样的,你看看他们方法的设置参数是有区别的,还有你说的清洗,如果不用为什么不打磨呢??为啥非要用不清楚的电化学清洗??如果非要用电化学清洗,估计不太好确定清洗的结果,如果有少量的话,你电化学方法未必能检测出来,你用物理表征的话,那样感觉更费事,
顶一下,没人知道么?刚接触电化学不久,急需各位的帮助!谢谢了!
溶出伏安法中包含了这个吧。字面上理解,就是给一恒定的电位进行极化。
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