本人最近在做MCM-41的合成，硅源采用正硅酸乙酯、模板剂用十六烷基三甲基溴化铵，按照文献比例TEOS:CTAB:H2O=1:0.25:60,用氨水调节PH=11,然后搅拌2小时，装入反应釜，130℃，48h。最后洗涤、干燥、焙烧。但是测XRD时并没有出现特征峰，想请教一下各位前辈。
小弟初步分析：1、有的文献中用氢氧化钠保持碱性，而我用的氨水，是否会影响？
2、也有的文献中在合成中加入无水乙醇，有的没有。想问下加入乙醇的作用？是否多合成有影响。
恳请路过的各位前辈指点。
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