现在在学点纳米制造，用ebl做纳米级结构。但是现在的问题是，显影之后，resist层总会有不同程度的较为严重的开裂，尽管所设计的图案也可以做出来……
如图所示，所设计的图案显影后出现了(中间部分，被电子束扫描的部分，resist被溶解)。然而其他的部分莫名出现很多裂痕不知道为啥。
所使用的条件为:
丙酮，水，异
丙醇依次超声洗三分钟，氮气吹干。
氧气等离子体15分钟。
zep520a spin coating，500rpm 5秒， 2000rpm 60秒。
180摄氏度两分钟，随后放在金属台面冷却。
同样的旋涂spin coating 一种叫Espacer的导电高分子。
进eb ，50kV 200pA, dosetime 0.45 us/dot。
显影用二
甲苯，三分钟。异丙醇冲洗，氮气吹干。
以上是我的一些步骤和参数。有没有大神知道哪里出了问题或者哪里可能出问题……
