使用气相沉积的方法（1000℃），将材料包覆于
二氧化硅气凝胶颗粒。
未包覆之前的XRD图谱可以理解为二氧化硅为无定型状态，但是峰位与二氧化硅的PDF
标准卡片对应不上。可能是个区间，由于初学，不是很确定。
包覆之后的XRD图谱出现了尖锐峰，出现的问题还是峰位与PDF标准卡片对应不上。
可能是二氧化硅结晶吗？但是文献里1200℃以下的二氧化硅的XRD都没结晶现象，即没尖锐峰。是不是我包覆的材料结晶了？但是峰位匹配不上。
求大神帮忙分析下原因，新虫，金币不是很多，麻烦了。小弟感激不尽。
备注：红色为未包覆。
