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磁控溅射 Cu Al 求助?

磁控溅射镀铝和铜时,出现了一个问题,辉光的时候,靶材发红。

本底真空6×10-4Pa,工作压强 2.1Pa,氩气流速:5.3

原先的时候,铜和铝都好使,铜发绿光,铝发紫光。

现在不知道怎么回事,全都变红了,镀膜质量非常差。

诸位哥哥姐姐,有没有知道解决办法的,拜谢了!
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共9个回答
压强降低到0.5pa试试
还是不行。

还有一个情况,电压大。

加在靶材的电压,正常的情况下,电流0.4A,电压大概在300V

现在的情况下,电流同样为0.4A,电压升到了450V

拜托您给分析分析,拜谢
压强降低到0.5pa试试
真空再抽高一些,真空度还是低
镀铝 是想镀铝膜还是氧化铝呢?如果铝膜的话你的真空度还需要再低,不然会被氧化的。
建议溅射之前先进行预溅射去除表面氧化层;同样条件电压变化过大可能与气压有关

①检查真空度,是否达到真空要求。②检查靶材表面是否有氧化膜。③通入气体是否纯净。
一般靶面辉光偏红,肯定是内部气氛不对了,或者漏气或者漏水。
但是你的本地真空进入-4了就很难解释。你沉积结束后立即关闭特气,观察真空度,如果真空比沉积之前好,那么是正常的,如果变差就能说明问题。

另,电压偏高很可能是靶材表面形成氧化物或氮化物了,你可以开腔门看看靶材表面状态。

由于不在现场,很多细节你需要多留意才好排除解决。
可能是气路漏气造成的。

看看是否是气体不纯的原因

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