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化学学科 精细化工

求助大神，光刻胶显影出现脱落，怎么办?

我在硅片上镀了一层金属，又做了几层纳米级的介质，用正胶1805做的光刻结构，前烘和后烘都做了，温度100℃，显影后冲洗光刻胶脱落了，是因为金属反光的原因吗？
还有这个金属层会不会形成干涉，对我的光刻结构有影响啊。求助大神??
我的样品好像不疏水，之前用硅片测试，可以做的很好，一用我的样品做就出现这种问题。???

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共4个回答
哭、等谁回眸，机电工程师 2024-05-07回答
前烘温度可能不够，曝光可能也短，光刻胶没充分发生交联反应

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寡寒.，设备维修 2019-09-13回答
减少曝光量，增加预烘温度，有没有试过，我在钼铝钼上做比在硅片上做曝光量要少好多
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南音.北乐.，化工操作员 2019-09-13回答
说明你的纳米级介质和光刻胶不沾啊。建议使用增粘剂。
买增粘剂可以联系研材微纳。
你的样品不疏水，一般来说，对光刻胶的黏附性是极其有害的。所以最好增粘剂的时候把后续的工艺交待清楚，以便帮助选择合适的增粘剂。
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趁早.，设备工程师 2019-09-13回答
基片涂胶前基片多烘烤一会，再不行就涂增粘剂
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